判斷納米位移臺是否需要重新校準，主要是通過觀察其定位精度、重復精度、回差和實際運動表現來確定。以下是詳細方法和指標。
一、定位與重復精度檢查
重復定位測試
將位移臺移動到一個目標位置，然后回到初始位置，重復多次。
測量每次回到初始位置的偏差，如果偏差超過設備標稱重復精度的允許范圍，說明需要校準。
跨程定位測試
在整個行程內選取若干關鍵點進行移動和回零測試。
如果發現不同位置的誤差明顯增大或不均勻，可能是非線性誤差積累，需要重新校準。
二、回差與滯回效應檢查
前后運動對比
在同一起點，分別從正向和反向移動到目標點。
測量兩次到達目標點的位置差，如果回差超過規格，則表明位移臺可能需要校準。
滯回曲線分析
對位移臺輸出與輸入信號繪制滯回曲線。
如果滯回面積明顯增大或曲線形狀異常，也提示需要校準。
三、分辨率與噪聲表現檢查
如果位移臺原本的分辨率下降，或在低速微調時出現跳動或噪音增加，也可能是校準失效或機械磨損引起。
四、長期使用與環境因素
時間因素
長期使用或經歷大量循環后，納米位移臺容易產生機械磨損、摩擦變化或溫漂積累，需要定期校準。
環境變化
溫度、濕度、振動等環境變化可能影響位移臺性能，出現明顯偏差時也應重新校準。