納米位移臺的線性誤差校準是提高定位精度的關鍵環節，通常結合 測量（干涉儀或光柵尺）和 閉環補償 來完成。下面整理常用方法與具體步驟：
1. 校準原理
核心思路：測量臺面實際位移與理論位移的差值，構建誤差補償表或函數，在控制系統中進行補償。
校準可分為 靜態校準（慢速步進）和 動態校準（連續運動）兩類。
2. 校準方法
(1) 光學干涉法校準
安裝干涉儀與位移臺平行，確保光束沿運動方向。
臺面按規定步長移動（如 1 μm 或更小），干涉儀記錄實際位移。
將實際位移與理論位移比較，得到誤差曲線（誤差 = 實際 – 理論）。
將誤差曲線數據導入控制系統或軟件，用于生成 補償表。
(2) 光柵尺/編碼器反饋校準
安裝高精度光柵尺沿位移方向。
控制臺面按步長移動，同時讀取光柵尺反饋值。
計算每步誤差，并繪制誤差曲線。
通過軟件建立補償函數或查表，實現 閉環補償。
(3) SEM/AFM 標記測量法
在臺面或樣品上固定微納米標記（刻線、納米顆粒）。
臺面移動，使用 SEM/AFM 測量標記位移。
與理論位移對比，得到誤差曲線。
構建誤差補償表，在控制系統中進行校正。
3. 校準步驟（通用流程）
準備階段
清理位移臺，保證機械狀態良好。
環境控制：恒溫、低振動、低濕度。
安裝測量設備（干涉儀、光柵尺或 SEM/AFM 標記）。
測量階段
選擇合適步長和行程范圍，進行位移測量。
建立 實際位移 vs 理論位移 數據表。
可多次重復測量，取平均值，提高可靠性。
數據處理
計算誤差：誤差 = 實際位移 – 理論位移
繪制誤差曲線，分析誤差特性（線性、滯后、非線性段）。
誤差補償
根據誤差曲線建立 補償表或函數。
將補償數據導入控制系統或運動軟件，實現閉環校正。
校準后驗證：重復測量，確認誤差是否降低到目標范圍（如 ±10 nm）。