判斷納米位移臺是否出現誤差，需要從系統反饋、運動表現和測量結果等多個維度綜合分析。以下是常用的判斷方法和依據：
一、從控制系統或反饋信號判斷
閉環控制反饋值與設定值不一致
如果位移臺為閉環控制（如帶有光柵尺或電容傳感器），應實時檢查反饋值是否與設定值一致。
偏差大、反復出現或難以收斂，可能存在誤差或控制問題。
誤差信號或報警信息
控制器軟件可能會彈出“超限”、“無法到位”、“失穩”等信息，是系統異常的重要信號。
振蕩或不穩定反饋波形
若反饋信號曲線出現不規則抖動或震蕩，也說明運動過程中存在誤差或干擾。
二、從運動表現判斷
重復定位誤差明顯
多次讓位移臺返回同一目標位置（如“往返5次”），若位置結果波動大于設備規格，說明重復定位誤差偏大。
回程誤差較大
正反方向到達同一目標點時，若位置反饋或實際測量值不同，可能存在回程間隙或驅動失配。
響應遲緩或延遲明顯
位移響應慢、不跟手、滯后大，可能是電機負載變化、潤滑失效或控制參數設置不合理。
三、從外部測量判斷
用激光干涉儀、光學顯微鏡、AFM 或白光干涉儀測量
實測軌跡、位移量與設定值進行對比，尤其適用于高精度需求下的誤差檢測。
位移不線性
理論上應勻速運動的過程，若測量出明顯的加減速或平臺“跳動”，提示執行系統或編碼器存在問題。
目標樣品未能對準或誤差累積明顯
在顯微觀察下，樣品無法精準對準目標區域、圖像漂移嚴重，通常也是位移臺定位不準的表現。